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09-10
2026
低温PLD工艺中的臭氧实验原理
低温PLD工艺中的臭氧实验原理在低温脉冲激光沉积（PLD）工艺中引入臭氧（O₃），核心目的是为了解决低温下氧化物薄膜容易缺氧、结晶质量差的问题。它的基本实验原理...
08-21
2026
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08-06
2026
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07-30
2026
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07-15
2026
臭氧水替代SPM：半导体光刻胶剥离的绿色革命
在芯片制造的数百道工序中，光刻胶剥离是反复进行的必要环节。传统上，业界普遍采用SPM清洗液——即浓硫酸与双氧水的高温混合液（约130℃）来去除光刻胶...
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