什么是臭氧，它在半导体中是如何工作的

什么是臭氧，它在半导体中是如何工作的？

臭氧气体具有高度反应性，可以有效分解各种污染物。在半导体制造中，臭氧气体用于通过将硅晶圆暴露于基于臭氧的清洁溶液来去除硅晶片表面的污染物。溶液中的臭氧与污染物反应并分解它们，使表面清洁且没有杂质。

在半导体制造中使用臭氧的优势

高效：臭氧具有高反应性，可以快速有效地去除各种污染物，包括有机残留物、金属和颗粒。这使其成为清洁半导体表面以保持高清洁度的理想选择。

环保：臭氧是一种天然存在的气体，在与污染物反应后会迅速恢复为氧气。这使其成为其他可能含有有害化学物质的清洁剂的环保替代品。

效率：臭氧是一种速效清洁剂，可以快速有效地去除表面的污染物。这使其成为时间是关键因素的清洁过程的有效选择。

多面性：臭氧可用于各种清洁应用，包括表面清洁、水处理和空气净化。这使其成为一系列行业的多功能选择。

安全：如果使用得当，臭氧通常被认为对工人和环境都是安全的。

主要特点：

臭氧比RCA清洁技术便宜。

臭氧是一种环保且具有成本效益的解决方案，适用于高级晶圆清洁。

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